Chemical role of SF6 in a SiCl4-based reactive ion etching of GaN
| Autor: | Karouta, F., Jacobs, B., Krämer, M.C.J.C.M., Jacobs, K., Moerman, I. |
|---|---|
| Přispěvatelé: | Photonic Integration |
| Jazyk: | angličtina |
| Rok vydání: | 1999 |
| Zdroj: | Conference on Semiconductor and Integrated OptoElectronics (SIOE'99), Paper # 23 |
| Databáze: | OpenAIRE |
| Externí odkaz: |
|