Investigation of a CF4/Ar RF gas discharge

Autor: Vallinga, P.M., Meijer, P.M., Smits, A.J., Hoog, de, F.J., Akashi, K., Kinbara, A.
Přispěvatelé: Applied Physics
Jazyk: angličtina
Rok vydání: 1987
Předmět:
Zdroj: ISPC 8 : International symposium on plasma chemistry, Tokyo, August 31-September 4, 1987, vol. 1
Databáze: OpenAIRE