| Autor: |
Horikawa, Tsuyoshi |
| Jazyk: |
japonština |
| Rok vydání: |
2022 |
| Předmět: |
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| Zdroj: |
電子情報通信学会誌 = The journal of the Institute of Electronics, Information and Communication Engineers. 105(No. 11):1299-1306 |
| ISSN: |
2188-2355 |
| Popis: |
シリコンフォトニクス技術による種々の光機能を大規模光回路に集積するためには，各機能デバイスの設計・プロセス・検証を連携させ，プラットホーム技術として統合する必要がある．我々は，ArF 液浸露光などの40 nm 世代CMOS技術，300 mm 径SOI，ゲルマニウムエピタキシャル成長装置，光ウェーハプロービングシステムを用いたプロセス制御，及び統合的な設計ライブラリにより，世界最高の低伝搬損導波路，波長確度の高いフィルタ素子，高速変調器・受光器等の再現性の高い集積を可能とするプラットホーム技術を確立した． |
| Databáze: |
OpenAIRE |
| Externí odkaz: |
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