Diffusion Barrier and Contact Properties of Amorphous Co-Ti Alloy for LSI Interconnections

Autor:	HOSSEINI, MARYAMSADAT
Přispěvatelé:	小池淳一
Jazyk:	angličtina
Popis:	要約のみ 課程
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=jairo_______::b01198548eeb96196a66dd2478b2a456 http://hdl.handle.net/10097/00125245 Zobrazit plný text záznamu