Study on Fabrication of High Aspect Ratio TPSE by using DRIE

Autor:	shimizu, misaki, Nishioka, Kunio, Matsutani, Akihiro, YOSHIDA, KAZUHIRO, KIM, Joon-wan
Jazyk:	japonština
Rok vydání:	2016
Předmět:	MEMS Deep reactive ion etching Fabrication
Zdroj:	山梨講演会講演論文集. :161-162
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=jairo_______::8760273cdfd44cf94ebb814d5dffb417 http://t2r2.star.titech.ac.jp/cgi-bin/publicationinfo.cgi?q_publication_content_number=CTT100733809 Zobrazit plný text záznamu