Plasma effects in a micromachined floating-gate high-electron-mobility

Autor:	HAGIWARA, ICHIRO, Hu, Yabo, Ryzhii, Victor, Ryzhii, Maxim, S. Shur, Michael, I, Khmyrova
Jazyk:	angličtina
Rok vydání:	2008
Zdroj:	Jpn.J.Appl. Phys.
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=jairo_______::51fd020ac9e2a21e1d94c2e2ba4f7749 http://t2r2.star.titech.ac.jp/cgi-bin/publicationinfo.cgi?q_publication_content_number=CTT100584619 Zobrazit plný text záznamu