テラヘルツFELをプローブとした光励起半導体キャリアダイナミクスの研究
| Autor: | Keigo, Kawase |
|---|---|
| Jazyk: | japonština |
| Rok vydání: | 2021 |
| Zdroj: | 物質・デバイス領域共同研究拠点成果報告書. |
| Popis: | 光励起半導体キャリアダイナミクスを研究するために、産業科学研究所量子ビーム科学研究施設に設置されているテラヘルツ領域の自由電子レーザー装置を用いて、ピコ秒テラヘルツパルス列によりフェムト秒チタンサファイアレーザーシステムで励起した半導体表面のプラズマの時間発展を詳細に計測研究を実施している。今年度は特に、ガリウムヒ素、シリコンおよびゲルマニウムに対する表面プラズマの時間発展についての計測を実施した。 |
| Databáze: | OpenAIRE |
| Externí odkaz: |
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