Modeling of Gas Discharge in Water Vapor
| Autor: | General, A. A., Shpenik, Yu. O. |
|---|---|
| Jazyk: | angličtina |
| Rok vydání: | 2018 |
| Předmět: | |
| Zdroj: | Ukrainian Journal of Physics; Vol. 58 No. 2 (2013); 116 Український фізичний журнал; Том 58 № 2 (2013); 116 |
| ISSN: | 2071-0194 2071-0186 |
| DOI: | 10.15407/ujpe58.02 |
| Popis: | The results of our study of a gas-discharge plasma in water vapor are reported. The generation rate of excited OH* (A2Σ+) radicals in the water vapor discharge turns out significantly higher than the formation rate of emitting states of hydrogen and oxygen atoms. According to our estimations, the optimum value of E=N-ratio between the electric field strength E and the concentration of gas particles N for the excitation of radical OH* bands equals (300 -- 400)x10^-21 V*m2.. Представлено результати дослiдження газорозрядної плазми парiв води. Швидкiсть утворення збуджених радикалiв ОН* (A2Σ+) в розрядi в парах води значно вище швидкостей утворення випромiнювальних станiв атомiв водню i кисню. Згiдно з оцiнками оптимальнi для збудження смуг радикала ОН* значення E=N (тут E – напруженiсть електричного поля, N – концентрацiя частинок газу) становлять 300–400 Тд. |
| Databáze: | OpenAIRE |
| Externí odkaz: |
|