Obtenção de austenita expandida (fase S): Nitretação por plasma em baixa temperatura x SHTPN - Parte 1

Autor: Vinícius Pandolfo, Ricardo Fernando dos Reis
Jazyk: portugalština
Rok vydání: 2015
Předmět:
Zdroj: Matéria (Rio de Janeiro) v.20 n.1 2015
Matéria (Rio de Janeiro. Online)
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Matéria (Rio de Janeiro), Volume: 20, Issue: 1, Pages: 23-31, Published: MAR 2015
Popis: Corpos de prova de aço inoxidável ISO 5832-1 foram tratados por dois diferentes processos, nitretação por plasma em baixa temperatura e SHTPN, com objetivo de obter camada superficial rica em nitrogênio (fase S ou γN) e livre de precipitados. O tempo de nitretação para ambos os processos foi o mesmo (3 h), de modo a possibilitar um comparativo dos resultados obtidos. Utilizaram-se as seguintes técnicas de análise: microscopia eletrônica de varredura (MEV), microscopia ótica (MO), microdureza, difração de raios-X (DRX) e espectroscopia por dispersão de comprimento de onda. Os resultados indicaram que a nitretação em baixa temperatura possibilita a formação de camada de fase S com concentrações da ordem de 0,90 % N (peso) com espessuras de pouco mais de 2 µm, enquanto o SHTPN gera camadas com 0,45 % N (peso) e espessuras de até 200 µm. Samples of stainless steel ISO 5832-1 were nitrided by two different processes, plasma nitriding at low temperature and SHTPN, in order to obtain a nitrogen rich surface layer (S-phase or γN) free from precipitates. The nitriding time for both processes was the same (3 h), to enable a comparison of the results obtained. Treated samples were characterized by means of scanning electron microscopy (SEM), optical microscopy, microhardness, X-ray diffraction (XRD) and wavelength dispersive spectrometry (WDS). The results indicate that low-temperature nitriding enables the formation of S-phase layer with nitrogen concentrations about 0.90 wt.% with a thickness of 2.15 μm, while SHTPN generates layers with 0.45 wt.% and thicknesses up to 200 µm.
Databáze: OpenAIRE
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