Optical Properties and Stability of Bilayer Rubrene-Alq3 Films Fabricated by Vacuum Deposition
Autor: | L. V. Viduta, T.A. Gavrilko, Jakub Baran, V. B. Nechytaylo |
---|---|
Jazyk: | angličtina |
Rok vydání: | 2018 |
Předmět: |
Materials science
Alq3 General Physics and Astronomy 02 engineering and technology 010402 general chemistry 01 natural sciences Рубрен Alq3оксидований рубрен вакуумне осадження тонкі плівки ІЧ спектра фотолюмінесценція chemistry.chemical_compound Vacuum deposition FTIR spectra rubrene vacuum deposition Rubrene Surface physics (surface physiscs low-dimensional systems nonlinear dynamics) business.industry Bilayer Фізика поверхні 021001 nanoscience & nanotechnology 0104 chemical sciences chemistry thin films oxidized rubrene Optoelectronics photoluminescence 0210 nano-technology business |
Zdroj: | Ukrainian Journal of Physics; Vol. 63 No. 4 (2018); 362 Український фізичний журнал; Том 63 № 4 (2018); 362 |
ISSN: | 2071-0194 2071-0186 |
DOI: | 10.15407/ujpe63.4 |
Popis: | We report on the optical and structural characterization of the two-component vacuum deposited (VD) rubrene (Rub)-Alq3 films. As is known, Rub-doped OLED active materials demonstrate both promising electroluminescence and transistor characteristics. However, in terms of operational lifetime, the Rub practical application in basic devices has a few draw-backs related to its chemical instability. Our main attention was focused on the role of the Alq3 coverage and the isomeric transformation of a Rub molecule on its chemical stability in these structures. By monitoring the evolution of PL emission in time, we found that the Rub degradation in Rub-Alq3 films is slower than that in vacuum-deposited Rub layers. These results demonstrate that the deposition of an Alq3 layer can be a way to enhance the stability of Rub to the photo-oxidation in optoelectronic devices. The Rub amorphous film crystallization at elevated temperatures in open air was observed for the first time. Дослiджено оптичнi та структурнi властивостi двокомпонентних плiвок рубрен-Alq3, одержаних методом вакуумного напорошення (ВН). Вiдомо, що допованi рубреном активнi матерiали для органiчних свiтловипромiнювальних дiодiв та транзисторiв демонструють покращенi електролюмiнесцентнi та електротранспортнi характеристики, але практичному застосуванню таких систем перешкоджає хiмiчна нестабiльнiсть рубрену, що скорочує експлуатацiйний термiн служби вiдповiдних пристроїв. В роботi дослiджено вплив захисного шару Alq3, а також наявностi рiзних iзомерiв молекули рубрену на його хiмiчну стабiльнiсть у двошарових тонкоплiвкових структурах. На основi експериментальних дослiджень спектрiв IЧ поглинання та часової еволюцiї спектрiв фотолюмiнесценцiї було показано, що процес фотодеградацiї (утворення перекису) рубрену у плiвках рубрен-Alq3 вiдбувається бiльш повiльно, нiж у тонких шарах самого рубрену. Результати свiдчать про те, що нанесення захисного шару Alq3 може бути засобом пiдвищення хiмiчної стiйкостi рубрену до фотоокислення у оптоелектронних приладах. Також нами вперше виявлено процес кристалiзацiї аморфної плiвки фотоокисленого рубрену пiд час ї ї високотемпературного вiдпалу, який супроводжуються вiдновленням первiсної хiмiчної структури молекули рубрену. |
Databáze: | OpenAIRE |
Externí odkaz: |