Corrosion resistance and tribological behavior of WS2-Ti coatings by Ti cathode power changes in magnetron co-sputtering

Autor: Jhonattan De La Roche-Yepes, Elizabeth Restrepo-Parra, Hector Sanchez-Sthepa, Juan Manuel González Carmona
Jazyk: angličtina
Rok vydání: 2018
Předmět:
Zdroj: Dyna, Vol 85, Iss 207, Pp 221-226 (2018)
DYNA, Volume: 85, Issue: 207, Pages: 221-226, Published: DEC 2018
ISSN: 2346-2183
0012-7353
Popis: Titanium-doped tungsten disulfide thin films (WS2-Ti) were deposited using a DC magnetron co-sputtering on AISI 304 stainless steel and silicon substrates. Different Ti cathode power densities between 0 and 1.25 W/cm2 were used for coating deposition. Energy-dispersive spectroscopy evidenced an increase in Ti percentage at the expense of W, as well as a sulfur deficiency. Raman spectroscopy was used to identify bands corresponding to W-S for undoped WS2. As the material was doped, changes in crystalline structure caused W-S main bands to separate. Scratch adhesion testing showed that Ti percentage increased along with the critical load (Lc). Furthermore, adhesive failure type changed from plastic to elastic. Finally, corrosion resistance analysis using electrochemical impedance spectroscopy (EIS) showed that, at high Ti concentrations, corrosion resistance was enhanced as Ti facilitates coating densification and generates a protective layer. Resumen Películas delgadas de bisulfuro de tungsteno dopado con titanio fueron depositadas usando la técnica de magnetron co- sputtering DC sobre sustratos de acero inoxidable AISI 304 y Silicio. Para producir los recubrimientos, la densidad de potencia del cátodo de titanio fue variada entre 0 y 1.25 W/cm2. Los resultados de espectroscopia de energía dispersiva muestran un incremento en el porcentaje de Ti a expensas de W, además muestra una disminución en el porcentaje de azufre. Con las medidas de espectroscopía Raman se identificaron las bandas al enlace W-S para WS2 sin dopar. Cuando el material es dopado, los cambios en la estructura cristalina producen la separación de las principales bandas del enlace W-S. Usando la prueba de rayado dinámico, la adhesión de los recubrimientos fue estudiada, mostrando que la carga critica (Lc) incrementa con el porcentaje de Ti; además, la falla pasa de adhesiva a cohesiva con el incremento de Ti. Finalmente, la resistencia a la corrosión fue evaluada usando la técnica espectroscopia de impedancia electroquímica (EIS), y es observado que a altas cantidades de Ti, se mejora la resistencia a la corrosión debido a que el Ti facilita la densificación y genera una capa protectora.
Databáze: OpenAIRE