Free-standing La 0.7 Sr 0.3 MnO 3 suspended micro-bridges on buffered silicon substrates showing undegraded low frequency noise properties
| Autor: | J El Fallah, F. Lemarie, G Brasse, Vanuza Nascimento, B. Guillet, Shuang Liu, D. G. Schlom, Carolina Adamo, S Lebargy, Laurence Méchin |
|---|---|
| Přispěvatelé: | Equipe Electronique - Laboratoire GREYC - UMR6072, Groupe de Recherche en Informatique, Image et Instrumentation de Caen (GREYC), Université de Caen Normandie (UNICAEN), Normandie Université (NU)-Normandie Université (NU)-École Nationale Supérieure d'Ingénieurs de Caen (ENSICAEN), Normandie Université (NU)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Université de Caen Normandie (UNICAEN), Normandie Université (NU)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Stanford University, Centre de recherche sur les Ions, les MAtériaux et la Photonique (CIMAP - UMR 6252), Normandie Université (NU)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Institut de Recherche sur les Matériaux Avancés (IRMA), Normandie Université (NU)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Université de Rouen Normandie (UNIROUEN), Normandie Université (NU)-Institut national des sciences appliquées Rouen Normandie (INSA Rouen Normandie), Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-Normandie Université (NU)-Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Université de Rouen Normandie (UNIROUEN), Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-Normandie Université (NU)-Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Laboratoire catalyse et spectrochimie (LCS), Normandie Université (NU)-Institut de Chimie du CNRS (INC)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Department of Materials Science and Engineering, Cornell University [New York], Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-École Nationale Supérieure d'Ingénieurs de Caen (ENSICAEN), Normandie Université (NU)-Normandie Université (NU)-Université de Caen Normandie (UNICAEN), Normandie Université (NU)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-École Nationale Supérieure d'Ingénieurs de Caen (ENSICAEN), Normandie Université (NU), Normandie Université (NU)-Normandie Université (NU)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Université de Caen Normandie (UNICAEN), Normandie Université (NU)-Normandie Université (NU)-Institut de Chimie du CNRS (INC)-Université de Caen Normandie (UNICAEN) |
| Jazyk: | angličtina |
| Rok vydání: | 2019 |
| Předmět: |
Materials science
Fabrication fabrication steps Ion beam Silicon chemistry.chemical_element 02 engineering and technology low frequency noise manganites 7. Clean energy Electrical and Electronic Engineering Reactive-ion etching Thin film [SPI.NANO]Engineering Sciences [physics]/Micro and nanotechnologies/Microelectronics Microelectromechanical systems business.industry Mechanical Engineering epitaxial growth 021001 nanoscience & nanotechnology Electronic Optical and Magnetic Materials MEMS chemistry Mechanics of Materials functional oxides Optoelectronics fabrication process 0210 nano-technology business bolometers Molecular beam epitaxy Microfabrication |
| Zdroj: | Journal of Micromechanics and Microengineering Journal of Micromechanics and Microengineering, 2019, 29 (6), pp.065008. ⟨10.1088/1361-6439/ab16ac⟩ Journal of Micromechanics and Microengineering, IOP Publishing, 2019, 29 (6), pp.065008. ⟨10.1088/1361-6439/ab16ac⟩ |
| ISSN: | 0960-1317 1361-6439 |
| DOI: | 10.1088/1361-6439/ab16ac⟩ |
| Popis: | International audience; We report on the microfabrication process of free-standing suspended micro-bridges made of La0.7Sr0.3MnO3 (LSMO) thin films of thicknesses in the range of 10–100 nm. LSMO films were epitaxially grown on either SrTiO3 or CaTiO3 buffer layers on silicon substrates by reactive molecular beam epitaxy. The micro-bridges were patterned using standard UV photolithography then etched by ion beam and released using reactive ion etching of silicon in SF6. LSMO suspended micro-bridges 2 and 4 µm wide and of length ranging from 50 to 200 µm could be fabricated with a high fabrication yield (of about 85% as evaluated over 100 fabricated suspended micro-bridges) without degrading the electrical transport properties and in particular the low frequency noise level, as attested by the normalized Hooge parameter. The latter was measured in the 0.55–7.50 × 10−30 m3 range at 300 K, which is comparable to those measured in non-suspended high quality epitaxial LSMO thin films. This fabrication process could be useful for bolometer fabrication where thermal isolation is needed, or for any microelectromechanical systems devices making use of epitaxial functional oxides. |
| Databáze: | OpenAIRE |
| Externí odkaz: |
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