Erratum: Zhang, C. et al., The Effect of Substrate Biasing during DC Magnetron Sputtering on the Quality of VO2 Thin Films and Their Insulator–Metal Transition Behavior. Materials 2019, 12, 2160

Autor:	Y.S. Li, M. Mohammadtaheri, Ozan Gunes, Safa Kasap, Shi-Jie Wen, Chunzi Zhang, Qiaoqin Yang, Rick Wong, Xiaoyu Cui
Jazyk:	angličtina
Rok vydání:	2020
Předmět:	Materials science ComputerApplications_COMPUTERSINOTHERSYSTEMS Insulator (electricity) Data_CODINGANDINFORMATIONTHEORY lcsh:Technology Metal General Materials Science Thin film lcsh:Microscopy lcsh:QC120-168.85 lcsh:QH201-278.5 lcsh:T business.industry Biasing Sputter deposition n/a lcsh:TA1-2040 visual_art ComputingMethodologies_DOCUMENTANDTEXTPROCESSING visual_art.visual_art_medium Optoelectronics lcsh:Descriptive and experimental mechanics lcsh:Electrical engineering. Electronics. Nuclear engineering Erratum lcsh:Engineering (General). Civil engineering (General) business lcsh:TK1-9971
Zdroj:	Materials Materials, Vol 13, Iss 5132, p 5132 (2020)
ISSN:	1996-1944
Popis:	The authors would like to correct a typographical error in their paper [...]
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::c1004c79ee0625814964f20c1842f074 http://europepmc.org/articles/PMC7697904 Zobrazit plný text záznamu Plný text ve formátu PDF Plný text ve formátu HTML
Nepřihlášeným uživatelům se plný text nezobrazuje	K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.