Gate Oxide Degradation of SiC MOSFET under Short-Circuit Aging Tests

Autor: F. Fouquet, Olivier Latry, Mohamed Masmoudi, Safa Mbarek, Pascal Dherbécourt
Přispěvatelé: Groupe de physique des matériaux (GPM), Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Institut national des sciences appliquées Rouen Normandie (INSA Rouen Normandie), Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-Normandie Université (NU)-Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-Normandie Université (NU)-Université de Rouen Normandie (UNIROUEN), Normandie Université (NU), École Supérieure d’Ingénieurs en Génie Électrique (ESIGELEC), Université de Rouen Normandie (UNIROUEN), Normandie Université (NU)-Normandie Université (NU)-Institut national des sciences appliquées Rouen Normandie (INSA Rouen Normandie), Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-Normandie Université (NU)-Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Institut de Recherche sur les Matériaux Avancés (IRMA), Université de Caen Normandie (UNICAEN), Normandie Université (NU)-Normandie Université (NU)-École Nationale Supérieure d'Ingénieurs de Caen (ENSICAEN), Normandie Université (NU)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Université de Rouen Normandie (UNIROUEN), Normandie Université (NU)-Institut national des sciences appliquées Rouen Normandie (INSA Rouen Normandie), Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-Normandie Université (NU)-Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Université de Caen Normandie (UNICAEN), Normandie Université (NU)-École Nationale Supérieure d'Ingénieurs de Caen (ENSICAEN), Normandie Université (NU)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)
Jazyk: angličtina
Rok vydání: 2016
Předmět:
Zdroj: Microelectronics Reliability
Microelectronics Reliability, Elsevier, 2016, 64, pp.415-418. ⟨10.1016/j.microrel.2016.07.132⟩
Microelectronics Reliability, 2016, 64, pp.415-418. ⟨10.1016/j.microrel.2016.07.132⟩
ISSN: 0026-2714
Popis: SiC MOSFETs reliability issues remain a challenge that requires further investigation. In this article, a short-circuit aging test was developed to characterize the electrical parameter evolution. The threshold voltage and gate drain capacitance seem to be relevant degradation indicators. These two parameters indicate a gate oxide degradation. Electron trapping in the oxide layer could be the mechanism behind this deterioration.
Databáze: OpenAIRE