Mask-aligner Talbot lithography using a 193nm CW light source
| Autor: | Vetter, Andreas, Kirner, R., Opalevs, D., Scholz, M., Leisching, P., Scharf, T., Noell, W., Rockstuhl, Carsten, Voelkel, R. |
|---|---|
| Jazyk: | angličtina |
| Rok vydání: | 2018 |
| Předmět: | |
| ISSN: | 0277-786X |
| DOI: | 10.5445/ir/1000083933 |
| Databáze: | OpenAIRE |
| Externí odkaz: |
|