Contribuição ao estudo dos processos de corrosão de fotorresiste por plasma ionico e por ion reativo

Autor: Costa Filho, Cicero Ferreira Fernandes
Přispěvatelé: Braga, Edmundo da Silva, 1945, Universidade Estadual de Campinas. Faculdade de Engenharia de Campinas, Programa de Pós-Graduação em Engenharia Elétrica, UNIVERSIDADE ESTADUAL DE CAMPINAS
Rok vydání: 2021
Předmět:
Zdroj: Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)
Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)
instacron:UNICAMP
Popis: Orientador: Edmundo da Silva Braga Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia de Campinas Resumo: Para fabricaçao de circuitos e dispositivos VLSI Very Laige Scale of Integration (Muita Larga Escala de Integraçao), a tecnologia de corrosão de material por plasma desempenhou um papel fundamental. A despeito desse processo de corrosao já ser atual mente utilizado em linhas de produçao na indústria de semi-condutores, a pesquisa sobre os mecanismos físicos e químícos nele envolvidos encontra-se em plena efervescência. Neste trabalho, apresentamos o projeto de uma câmara de reações por plasma iônico e por Ion reativo, caracterizamos o processo de corrosão de fotorresiste por ambos esses processos, estudamos o efeito de polarizações aplicados aos eletrodos sobre a taxa de corrosão do fotorresiste e investigamos a validez do emprego da microbalança como método de detecçao do ponto final. Em adição, com o intuito de melhor interpretarmos os resultados obtidos, efetuamos medidas da corrente que flui do eletrodo não conectado a fonte de RF para o terra e da tensão induzida no eletrodo conectado à fonte de RF em função da potência de RF, da pressão e de polarizações aplicadas aos eletrodos da câmara de reaçoes. No trabalho de caracterização, o ponto final das corrosões foi detectado por meio de espectroscopia ótica. Abstract: Not informed. Mestrado Mestre em Engenharia Elétrica
Databáze: OpenAIRE
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