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Neste trabalho, foram depositados filmes finos de nitreto de zirconio sobre substratos de carbono e silicio. O nitreto de zirconio ocupa lugar de destaque como revestimento, pois possui dureza elevada, estabilidade quimica e termica admiraveis, alem de possuir baixa resistividade eletrica. Devido a essas caracteristicas, o mesmo vem sendo amplamente aplicado como revestimento decorativo e protetor, sendo tambem utilizado em implantes e outros artefatos medicos devido a sua biocompatibilidade. O objetivo principal desse estudo e realizar a caracterizacao fisico-quimica dos filmes finos de ZrN utilizando uma tensao de BIAS para aumentar a densidade dos mesmos, a fim de evitar a incorporacao de contaminantes. Os resultados obtidos por RBS mostram que os filmes sao estequiometricos (condicao na qual possuem as melhores propriedades tribologicas) e possuem baixa quantidade de inclusao de impurezas, o que os caracteriza como sendo de boa qualidade. Alem disso, a analise por espectroscopia Raman comprova a formacao efetiva do nitreto de zirconio, e sua dureza de 15,15 GPa medida por nanoindentacao encontra-se de acordo com os valores encontrados na literatura. http://dx.doi.org/10.18226/23185279.v6iss1p11 |
