Characterization of electrodeposited CdTe thin films on Pt in acid electrolyte
| Autor: | Francisco Nivaldo Aguiar Freire, Rafael Aragão Magalhães, Francisco Wendel Cipriano de Oliveira, Paulo Herbert França Maia Júnior, José Hugo de Aguiar Sousa, Emerson Mariano da Silva, Francisco Marcone Lima, Álvaro Neuton de Araújo Silva |
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| Jazyk: | portugalština |
| Rok vydání: | 2015 |
| Předmět: |
Filme finos de CdTe
Materials science Eletrodeposição business.industry Scanning electron microscope Analytical chemistry General Physics and Astronomy chemistry.chemical_element Nanotechnology General Chemistry Substrate (electronics) Cadmium telluride photovoltaics Semiconductor chemistry Electrodeposition CdTe thin film Electrode General Materials Science Platina Thin film Platinum business Deposition (law) |
| Zdroj: | Repositório Institucional da Universidade Federal do Ceará (UFC) Universidade Federal do Ceará (UFC) instacron:UFC Matéria (Rio de Janeiro), Volume: 20, Issue: 4, Pages: 866-881, Published: DEC 2015 Matéria (Rio de Janeiro) v.20 n.4 2015 Matéria (Rio de Janeiro. Online) instacron:RLAM |
| Popis: | RESUMO A eletrodeposição tem sido empregada para a obtenção de materiais semicondutores; todavia, ainda não estão bem esclarecidos os mecanismos envolvidos neste processo. Neste sentido, este trabalho apresenta a investigação deste processo, evidenciando a caracterização do CdTe eletrodepositado sobre substrato platina em solução ácida. A deposição ocorre a partir de 0,0 V, em relação ao eletrodo Ag/AgCl,KClsat, com etapas de controle ativado e de difusão. Os filmes finos de CdTe foram eletrodepositados sobre o substrato de platina a temperatura ambiente (~24°C) a partir de uma solução ácida. A influência do potencial aplicado foi investigada utilizando técnicas de caracterização de superfície, como a difração de raios X e Microscopia eletrônica de varredura. A caracterização elétrica foi realizada por medidas de capacitância (Mott-Schottky). Os filmes finos de CdTe apresentaram pico de maior intensidade no plano (220), demostrando ter um crescimento preferencial para esse plano. Os filmes apresentam uma morfologia granular influenciado pelo potencial de deposição e uma condutividade característica de um semicondutor tipo n. ABSTRACT The electrodeposition has been used for obtaining semiconductor materials; however, remain unclear the mechanisms involved in this process. Thus, this paper presents the research of this process, showing the characterization of electrodeposited CdTe on platinum substrate in acid solution. The deposition occurs from 0.0 V relative to the electrode Ag/AgCl KClsat with step activated control and diffusion. The thin film of CdTe was electrodeposited on the platinum substrate at room temperature (~ 24 ° C) from an acidic solution. The influence of the applied potential was investigated using surface characterization techniques such as X-ray diffraction analyses and scanning electron microscopy. The electrical properties of the films were performed capacitance measurements (Mott-Schottky plot). The thin CdTe films presented the prominent (220) planes, showing have a preferential growth in that plane. The films show a granular morphology influenced by deposition potential and property of an n-type semiconductor. |
| Databáze: | OpenAIRE |
| Externí odkaz: |
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