Фотоелeктронна емiсiя катода Si–Gd–O

Autor: M.I. Fedorchenko, M.G. Nakhodkin
Jazyk: angličtina
Rok vydání: 2019
Předmět:
Zdroj: Ukrainian Journal of Physics; Vol. 61 No. 3 (2016); 248
Український фізичний журнал; Том 61 № 3 (2016); 248
ISSN: 2071-0194
2071-0186
DOI: 10.15407/ujpe61.03
Popis: Electronic and emission properties of photocathodes fabricated on the basis of multilayered structures of oxidized Gd atoms deposited on the Si(100) surface and additionally covered with fresh layers of Gd atoms have been studied as functions of the structure holding time under vacuum, by using the methods of photoelectron (ℎv = 1.9÷10.2 eV) and Auger electron spectroscopies. It is found that, although the photocathode work function is equal to about 0.5 eV at some research stages, the photoemission is registered only at ℎv ≥ 2.8 eV. The analysis of the results allowed us to propose a model for the energy structure of the photocathode that agrees with experimental data. According to this model, the near-surface region of a photocathode, about 1 nm in thickness, consists of Gd2O3 with the energy gap width of about 5.3 eV. The distance from the Fermi level to the conduction band bottom equals about 2.7 eV in the Gd2O3 bulk. In the forbidden gap below the Fermi level, the bulk states and filled surface states associated with structural defects. A complicated dipole layer appears on the surface, and this gives the substantial reduction of the work function.
Методами фотоелектронної (ℎv = 1,9—10,2 еВ) та оже-електронної спектроскопiй дослiджено змiни електронних та емiсiйних властивостей фотокатода на основi багатошарової структури окислених атомiв Gd на пiдкладцi iз Si(100) пiсля напилення на його поверхню додаткових шарiв атомiв Gd та з часом перебування цiєї структури в вакуумi. Було встановлено, що незважаючи на те, що робота виходу фотокатода на окремих етапах дослiджень становила ≈0,5 еВ, фотоемiсiя реєструвалась лише для ℎv ≥ 2,8 еВ. Аналiз отриманих результатiв дослiджень дозволив запропонувати модель iмовiрної енергетичної структури фотокатода, яка узгоджується з експериментальними даними. У вiдповiдностi з цiєю моделлю приповерхнева область фотокатода складається iз Gd2O3 товщиною ≈1 нм i шириною забороненої зони ≈5,3 еВ. Вiдстань вiд рiвня Фермi до дна зони провiдностi в об’ємнiй частинi Gd2O3 дорiвнює ≈2,7 еВ. В забороненiй зонi нижче рiвня Фермi розташованi об’ємнi локалiзованi стани та заповненi поверхневi стани, зумовленi дефектами структури. На поверхнi утворюється складний дипольний шар, вiдповiдальний за зменшення роботи виходу.
Databáze: OpenAIRE
Externí odkaz: