Recent Achievements in sub-10 nm DSA lithography for Line/Space patterning

Autor: Mary Ann Hockey, Guillaume Fleury, Laura Evangelio, Raluca Tiron, Ahmed Gharbi, Muhammad Waseem Mumtaz, Kui Xu, Christophe Navarro, Ian Cayrefourcq, Georges Hadziioannou, Fumi Ariura, Marc Zelsmann, Xavier Chevalier, Antoine Legrain, Marta Fernández-Regúlez, Francesc Pérez-Murano, Celia Nicolet, Laurent Pain
Přispěvatelé: Groupement de recherches de Lacq (GRL), Arkema (Arkema), Arkema (ARKEMA), BREWER Sci Inc, Rolla, MO 65401 USA, BREWER Sci Inc, Laboratoire de Chimie des Polymères Organiques (LCPO), Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Institut Polytechnique de Bordeaux-Ecole Nationale Supérieure de Chimie, de Biologie et de Physique (ENSCBP)-Université de Bordeaux (UB)-Institut de Chimie du CNRS (INC), Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM ), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Université Grenoble Alpes [2016-2019] (UGA [2016-2019]), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information (CEA-LETI), Direction de Recherche Technologique (CEA) (DRT (CEA)), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA), Instituto de Microelectrònica de Barcelona (IMB-CNM), Centro Nacional de Microelectronica [Spain] (CNM)-Consejo Superior de Investigaciones Científicas [Madrid] (CSIC), Arkema, Colombes, European Project: 621277,EC:FP7:SP1-JTI,ENIAC-2013-2,PLACYD(2014), Université de Bordeaux (UB)-Ecole Nationale Supérieure de Chimie, de Biologie et de Physique (ENSCBP)-Institut Polytechnique de Bordeaux-Institut de Chimie du CNRS (INC)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Clot, Marielle, ARKEMA FRANCE, Laboratoire de Chimie des polymères organiques (LCPO), Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-École Nationale Supérieure de Chimie et de Physique de Bordeaux (ENSCPB)-Université Sciences et Technologies - Bordeaux 1-Institut de Chimie du CNRS (INC), SOITEC, Université Sciences et Technologies - Bordeaux 1 (UB)-École Nationale Supérieure de Chimie et de Physique de Bordeaux (ENSCPB)-Institut de Chimie du CNRS (INC)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)
Jazyk: angličtina
Rok vydání: 2017
Předmět:
Zdroj: Journal of Photopolymer Science and Technology
Journal of Photopolymer Science and Technology, Technical Assoc of Photopolymers Japan, 2017, 30, pp.69-75. ⟨10.2494/photopolymer.30.69⟩
Journal of Photopolymer Science and Technology, 2017, 30, pp.69-75. ⟨10.2494/photopolymer.30.69⟩
ResearcherID
34th International Conference of Photopolymer Science and Technology
34th International Conference of Photopolymer Science and Technology, Jun 2017, chiba, Japan
ISSN: 0914-9244
1349-6336
DOI: 10.2494/photopolymer.30.69⟩
Popis: International audience; Silicon-containing and modified PS-b-PMMA high-χ block copolymers materials were produced to achieve lamellar mesostructure as low as 14 nm intrinsic period (L$_0$) and ordered by graphoepitaxy or chemoepitaxy processes. Line Edge Roughness (LER) measurements of 2.5 nm (3 σ) can be extracted from CD-SEM pictures of poly [(1,1-dimethylsilacyclobutane)-b-styrene] after etching step. Materials integrations on a 300 mm track process are highlighted. In fingerprint, new BCPs LWR L/S values are 1.5/1.1 nm in comparison to a graphoepitaxy flow where the LWR L/S values are 2.0/1.1 nm. Alternative methods to create high-resolution guiding patterns for directed self-assembly of block co-polymers and the scale-up to obtain industrial BCPs meeting electronic requirement are also reported.
Databáze: OpenAIRE
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