Diseño e implementación de un sistema de fotolitografía para fabricar microdispositivos a partir de películas delgadas
| Autor: | Jhon Jairo Realpe, Juan Fernando Florez, Gilberto Bolaños-Pantoja |
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| Rok vydání: | 2018 |
| Předmět: |
lcsh:TN1-997
microdevice diseño de productos Materials science product design 02 engineering and technology microdispositivo medicine.disease_cause lcsh:Technology 01 natural sciences Standard deviation law.invention 010309 optics law 0103 physical sciences Digital image processing medicine Thin film photolithography lcsh:Mining engineering. Metallurgy fotolitografía lcsh:T business.industry General Engineering Technical specifications 021001 nanoscience & nanotechnology thin films 62 Ingeniería y operaciones afines / Engineering Optoelectronics Photolithography películas delgadas 0210 nano-technology business Ultraviolet Light-emitting diode |
| Zdroj: | Repositorio UN Universidad Nacional de Colombia instacron:Universidad Nacional de Colombia Dyna, Vol 85, Iss 205, Pp 294-301 (2018) DYNA, Volume: 85, Issue: 205, Pages: 294-301, Published: JUN 2018 |
| ISSN: | 2346-2183 0012-7353 |
| DOI: | 10.15446/dyna.v85n205.68837 |
| Popis: | Resumen Este artículo presenta el diseño e implementación de un sistema de fotolitografía para fabricar microdispositivos basados en películas delgadas. El sistema trabaja con una fuente ultravioleta (UV) de 380nm y permite obtener microestructuras de 10-200 µm. La implementación se hizo con el proceso de diseño y desarrollo de productos, donde se determinó las especificaciones técnicas, generación, selección y prueba de conceptos de los módulos de equipo del sistema. Se implementó un spincoater con rango de operación de 500-6000 rpm y una fuente de radiación UV basada en LEDs UV, con potencia de radiación de 1-20mW/cm2 y tiempo de exposición de 1-60s. Se obtuvo micropuentes (mPs) de 30-105µm sobre películas delgadas de cobre. Con microscopía óptica y procesamiento digital de imágenes, se determinó que el error relativo porcentual en sus áreas es menor al 4% y la variabilidad en sus anchos es menor a dos veces la desviación estándar. Abstract This article presents the design and implementation of a photolithography system to manufacture microdevices based on thin films. The system works with ultraviolet (UV) source of 380nm and allows to obtain 10-200 μm microstructures. The implementation was made with the product design and development process, where the technical specifications, generation, selection and proof of concepts of the system equipment modules were determined. A spincoater with an operating range of 500-6000 rpm and UV radiation source, based on LEDs, with ranges in power of 1-20mW/cm2 and time of exposure 1-60s, were implemented. With optical microscopy and digital image processing, it was determined that the percentage relative error in their areas is less than 4% and the variability in their widths is less than two times the standard deviation. |
| Databáze: | OpenAIRE |
| Externí odkaz: |
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