Investigation of Cu/TaN and Co/TaN Barrier-Seed Oxidation by Acidic and Alkaline Copper Electroplating Chemistry for Damascene Applications

Autor: Amine Lakhdari, Frédéric Raynal, Jackie Vigneron, Arnaud Etcheberry, Mikailou Thiam, Louis Caillard
Přispěvatelé: aveni, massy, Institut Lavoisier de Versailles (ILV), Université de Versailles Saint-Quentin-en-Yvelines (UVSQ)-Institut de Chimie du CNRS (INC)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), aveni, F-91300 Massy
Jazyk: angličtina
Rok vydání: 2018
Předmět:
Zdroj: Journal of The Electrochemical Society
Journal of The Electrochemical Society, Electrochemical Society, 2018, 165 (10), pp.D439-D443. ⟨10.1149/2.0761810jes⟩
ISSN: 0013-4651
1945-7111
DOI: 10.1149/2.0761810jes⟩
Popis: International audience
Databáze: OpenAIRE