HiPIMS Ion Energy Distribution Measurements in Reactive Mode
| Autor: | Christophe Cardinaud, P.-Y. Jouan, Mihai Ganciu, S Tricot, M. A. Djouadi, L. Le Brizoual |
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| Přispěvatelé: | Institut des Matériaux Jean Rouxel (IMN), Université de Nantes - UFR des Sciences et des Techniques (UN UFR ST), Université de Nantes (UN)-Université de Nantes (UN)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Institut de Chimie du CNRS (INC)-Ecole Polytechnique de l'Université de Nantes (EPUN), Université de Nantes (UN)-Université de Nantes (UN), Laboratoire de physique des gaz et des plasmas (LPGP), Université Paris-Sud - Paris 11 (UP11)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Institut de Physique de Rennes (IPR), Université de Rennes 1 (UR1), Université de Rennes (UNIV-RENNES)-Université de Rennes (UNIV-RENNES)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Université de Nantes (UN)-Université de Nantes (UN)-Ecole Polytechnique de l'Université de Nantes (EPUN), Université de Nantes (UN)-Université de Nantes (UN)-Institut de Chimie du CNRS (INC)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Université de Rennes (UR)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS) |
| Rok vydání: | 2010 |
| Předmět: |
010302 applied physics
Nuclear and High Energy Physics Materials science Analytical chemistry 02 engineering and technology Sputter deposition Impulse (physics) 021001 nanoscience & nanotechnology Condensed Matter Physics Mass spectrometry 01 natural sciences 7. Clean energy Ion Nuclear magnetic resonance Sputtering 0103 physical sciences Cavity magnetron [PHYS.COND.CM-MS]Physics [physics]/Condensed Matter [cond-mat]/Materials Science [cond-mat.mtrl-sci] Plasma diagnostics High-power impulse magnetron sputtering 0210 nano-technology |
| Zdroj: | IEEE Transactions on Plasma Science IEEE Transactions on Plasma Science, Institute of Electrical and Electronics Engineers, 2010, 38 (11), pp.3089. ⟨10.1109/TPS.2010.2073688⟩ IEEE Transactions on Plasma Science, 2010, 38 (11), pp.3089. ⟨10.1109/TPS.2010.2073688⟩ |
| ISSN: | 0093-3813 |
| Popis: | International audience; In this paper, mass spectrometry was used to measure the ion energy distributions of the main species during the sputtering of an aluminum target in a reactive Ar + N2 mixture. Both conventional magnetron sputtering (dc) and high-power impulse magnetron sputtering (HiPIMS) were used. It appears that, in the HiPIMS, N+ and Al+ ions are significantly more energetic (up to 70 eV) than in the dc ( |
| Databáze: | OpenAIRE |
| Externí odkaz: |
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