Etude et synthèse de résines positives sensibles aux électrons et aux rayons X utilisées dans les procédés de microlithographie
| Autor: | A. Eranian, E. Datamanti, C. Montginoul, F. Schue, L. Giral, B. Serre, J. c. Dubois |
|---|---|
| Jazyk: | francouzština |
| Rok vydání: | 1985 |
| Předmět: |
Materials science
electron sensitive positive resists 020209 energy 02 engineering and technology Electron resists 021001 nanoscience & nanotechnology sensitivity poly alkyl alpha cyanoacrylates electron beam lithography Resist poly alkylmethacrylate ester chains electron resists X ray sensitive positive resists [PHYS.HIST]Physics [physics]/Physics archives photoresists 0202 electrical engineering electronic engineering information engineering Physical chemistry X-ray lithography microlithography 0210 nano-technology Electron-beam lithography polymers |
| Zdroj: | Revue de Physique Appliquée Revue de Physique Appliquée, Société française de physique / EDP, 1985, 20 (2), pp.77-86. ⟨10.1051/rphysap:0198500200207700⟩ |
| ISSN: | 0035-1687 2777-3671 |
| DOI: | 10.1051/rphysap:0198500200207700⟩ |
| Popis: | En vue d'améliorer la sensibilité des résines positives deux directions de recherche ont été poursuivies : — l'une a trait aux poly(méthacrylates d'alcoyle) fluorés sur la chaîne ester avec des structures et des longueurs de chaînes différentes, — l'autre a trait aux poly(α-cyanoacrylates d'alcoyle). Les caractéristiques lithographiques des différentes résines synthétisées et exposées à l'action d'un rayonnement (électrons et RX) font l'objet de ce travail. |
| Databáze: | OpenAIRE |
| Externí odkaz: |
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