Silicon crystallization in nanodot arrays organized by block copolymer lithography

Autor: Celia Castro, Gabriele Seguini, Michele Perego, A Andreozzi, Sylvie Schamm-Chardon, Gérard Benassayag
Přispěvatelé: Laboratorio MDM (IMM-CNR), Consiglio Nazionale delle Ricerche [Roma] (CNR), Centre d'élaboration de matériaux et d'études structurales (CEMES), Université Toulouse III - Paul Sabatier (UT3), Université Fédérale Toulouse Midi-Pyrénées-Université Fédérale Toulouse Midi-Pyrénées-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Institut de Chimie de Toulouse (ICT-FR 2599), Institut National Polytechnique (Toulouse) (Toulouse INP), Université Fédérale Toulouse Midi-Pyrénées-Université Fédérale Toulouse Midi-Pyrénées-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Institut de Recherche pour le Développement (IRD)-Université Toulouse III - Paul Sabatier (UT3), Université Fédérale Toulouse Midi-Pyrénées-Institut de Chimie du CNRS (INC)-Institut National Polytechnique (Toulouse) (Toulouse INP), Université Fédérale Toulouse Midi-Pyrénées-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Institut de Recherche pour le Développement (IRD)-Institut de Chimie du CNRS (INC)-Institut National des Sciences Appliquées - Toulouse (INSA Toulouse), Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-Institut National des Sciences Appliquées (INSA), Matériaux et dispositifs pour l'Electronique et le Magnétisme (CEMES-MEM), Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-Université Toulouse III - Paul Sabatier (UT3), NanoSci-E+ - ANR-08-NSCI-003: NANOBLOCK, ANR-08-NSCI-0003,NANO-BLOCK(2008), National Research Council of Italy | Consiglio Nazionale delle Ricerche (CNR), Institut National des Sciences Appliquées - Toulouse (INSA Toulouse), Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-Université de Toulouse (UT)-Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-Université de Toulouse (UT)-Institut de Chimie de Toulouse (ICT), Institut de Recherche pour le Développement (IRD)-Université Toulouse III - Paul Sabatier (UT3), Université de Toulouse (UT)-Université de Toulouse (UT)-Institut de Chimie du CNRS (INC)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Institut National Polytechnique (Toulouse) (Toulouse INP), Université de Toulouse (UT)-Institut de Recherche pour le Développement (IRD)-Université Toulouse III - Paul Sabatier (UT3), Université de Toulouse (UT)-Institut de Chimie du CNRS (INC)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Institut National Polytechnique (Toulouse) (Toulouse INP), Université de Toulouse (UT)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Université de Toulouse (UT)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Institut National des Sciences Appliquées - Toulouse (INSA Toulouse)
Jazyk: angličtina
Rok vydání: 2014
Předmět:
Amorphous silicon
electron beam
Nanoporous templates
synthesis
crystallization
Silicon oxides
law.invention
evaporation
high temperature
chemistry.chemical_compound
law
Electron beam evaporation
General Materials Science
Crystallization
[PHYS]Physics [physics]
density
Nanoporous
Lateral distributions
Block copolymer lithography
quantum dot
Self-assembly
Nanostructured materials
Self assembly
Condensed Matter Physics
Block copolymers
Atomic and Molecular Physics
and Optics
Nanocrystals
unclassified drug
Si nanocrystals
silicon nanodot
Transmission electron microscopy
Modeling and Simulation
[PHYS.COND.CM-MS]Physics [physics]/Condensed Matter [cond-mat]/Materials Science [cond-mat.mtrl-sci]
Nanodot
Specific substrates
High-temperature annealing
Materials science
E beam evaporation
Silicon
Nanolithography
chemistry.chemical_element
Bioengineering
Nanotechnology
film
Electron beam physical vapor deposition
Article
[SPI.NANO]Engineering Sciences [physics]/Micro and nanotechnologies/Microelectronics
Si nanocrystal
copolymer
silicon
General Chemistry
Amorphous solid
chemistry
Chemical engineering
TEM
polystyrene b polymethylmethacrylate block copolymer
E-beam evaporation
Amorphous films
Zdroj: Journal of Nanoparticle Research
Journal of Nanoparticle Research, Springer Verlag, 2014, 16 (12), ⟨10.1007/s11051-014-2775-6⟩
Journal of nanoparticle research 16 (2014). doi:10.1007/s11051-014-2775-6
info:cnr-pdr/source/autori:Perego, Michele; Andreozzi, Andrea; Seguini, Gabriele; Schamm-Chardon, Sylvie; Castro, Celia; BenAssayag, Gerard/titolo:Silicon crystallization in nanodot arrays organized by block copolymer lithography/doi:10.1007%2Fs11051-014-2775-6/rivista:Journal of nanoparticle research/anno:2014/pagina_da:/pagina_a:/intervallo_pagine:/volume:16
Journal of Nanoparticle Research, 2014, 16 (12), ⟨10.1007/s11051-014-2775-6⟩
ISSN: 1388-0764
1572-896X
DOI: 10.1007/s11051-014-2775-6⟩
Popis: cited By 2; International audience; Asymmetric polystyrene-b-polymethylmethacrylate (PS-b-PMMA) block copolymers are used to fabricate nanoporous PS templates with different pore diameter depending on the specific substrate neutralization protocol. The resulting polymeric templates are used as masks for the subsequent deposition of a thin (h = 5 nm) amorphous Si layer by electron beam evaporation. After removal of the polymeric film and of the silicon excess, well-defined hexagonally packed amorphous Si nanodots are formed on the substrate. Their average diameter (d
Databáze: OpenAIRE
Externí odkaz: