Etching of double-height-stepped Si(100)-2 x 1: Steps and their interactions

Autor:	Owens Dw, Weaver Jh, Gong Y
Rok vydání:	1996
Předmět:	Materials science business.industry Etching (microfabrication) Optoelectronics business Electrochemical scanning tunneling microscope
Zdroj:	Physical review. B, Condensed matter. 53(24)
ISSN:	0163-1829
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::211527b3575c2e85fbfdb92a11f66135 https://pubmed.ncbi.nlm.nih.gov/9983518 Zobrazit plný text záznamu