Parameters Optimization of Process on Different Wavelength Laser Etching of Poly Silicon

Autor:	朱亮 Zhu Baochun, 朱宝春 Han Zhenchun, 吕豫文 Zhu Liang, 孙铁囤 Sun Tietun, 韩振春 Lv Yuwen, 冯爱新 Feng Aixin, 薛伟 XueWei, 裴绍虎 Pei Shaohu
Rok vydání:	2013
Předmět:	Materials science Silicon business.industry Hybrid silicon laser chemistry.chemical_element Laser etching Wavelength chemistry Etching (microfabrication) Scientific method Optoelectronics Electrical and Electronic Engineering Reactive-ion etching business
Zdroj:	Applied laser. 33:318-321
ISSN:	1000-372X
DOI:	10.3788/al20133303.0318
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::129b5d27f8fe7a5e82988ea0f54494c3 https://doi.org/10.3788/al20133303.0318 Zobrazit plný text záznamu