Spontaneous decoration of silicon surfaces with MoOxnanoparticles for the sunlight-assisted hydrogen evolution reaction
| Autor: | Jean-François Bergamini, Cristelle Mériadec, Gabriel Loget, T.-G. Truong, O. De Sagazan, Soraya Ababou-Girard, Bruno Fabre |
|---|---|
| Přispěvatelé: | Institut des Sciences Chimiques de Rennes (ISCR), Université de Rennes 1 (UR1), Université de Rennes (UNIV-RENNES)-Université de Rennes (UNIV-RENNES)-Institut National des Sciences Appliquées - Rennes (INSA Rennes), Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-Université de Rennes (UNIV-RENNES)-Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-Ecole Nationale Supérieure de Chimie de Rennes (ENSCR)-Institut de Chimie du CNRS (INC)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Institut de Physique de Rennes (IPR), Université de Rennes (UNIV-RENNES)-Université de Rennes (UNIV-RENNES)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Institut d'Électronique et des Technologies du numéRique (IETR), Université de Nantes (UN)-Université de Rennes 1 (UR1), Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-Université de Rennes (UNIV-RENNES)-Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-CentraleSupélec-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Institut de Chimie du CNRS (INC)-Université de Rennes 1 (UR1), Université de Rennes (UNIV-RENNES)-Université de Rennes (UNIV-RENNES)-Ecole Nationale Supérieure de Chimie de Rennes (ENSCR)-Institut National des Sciences Appliquées - Rennes (INSA Rennes), Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-Université de Rennes (UNIV-RENNES)-Institut National des Sciences Appliquées (INSA), Nantes Université (NU)-Université de Rennes 1 (UR1), Université de Rennes (UR)-Institut National des Sciences Appliquées - Rennes (INSA Rennes), Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-Ecole Nationale Supérieure de Chimie de Rennes (ENSCR)-Institut de Chimie du CNRS (INC)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Université de Rennes (UR)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Université de Nantes (UN)-Université de Rennes (UR)-Institut National des Sciences Appliquées - Rennes (INSA Rennes), Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-CentraleSupélec-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS) |
| Rok vydání: | 2017 |
| Předmět: |
Materials science
Aqueous solution Fabrication Chemical substance Silicon chemistry.chemical_element Nanoparticle Nanotechnology 02 engineering and technology 010402 general chemistry 021001 nanoscience & nanotechnology 01 natural sciences 0104 chemical sciences law.invention Anti-reflective coating chemistry law [CHIM]Chemical Sciences General Materials Science 0210 nano-technology Science technology and society Faraday efficiency |
| Zdroj: | Nanoscale Nanoscale, Royal Society of Chemistry, 2017, 9 (5), pp.1799-1804. ⟨10.1039/C6NR08408G⟩ Nanoscale, 2017, 9 (5), pp.1799-1804. ⟨10.1039/C6NR08408G⟩ |
| ISSN: | 2040-3372 2040-3364 |
| DOI: | 10.1039/c6nr08408g |
| Popis: | International audience; The immersion of oxide-free Si surfaces in MoS42- aqueous solutions induces their spontaneous decoration with isolated MoOx nanoparticles (NPs). The process is versatile and was used on planar Si (100) as well as on antireflective Si (111) micro-pyramid (SimPy) arrays. The NP decoration does not affect the optical properties of the surface in the visible range and improves the performances of hydrogen evolution reaction (HER) under simulated sunlight. The simplicity and the scalability of the technique make it highly promising for the fabrication of catalytically active photoelectrodes. More specifically, the MoOx-decorated SimPy produced H2 at a rate of 11 μmol cm-2 min-1 with a faradaic efficiency higher than 90 % at -0.35 V vs RHE. Furthermore, this process can be of strong interest for other applications in high-performance electronic devices. |
| Databáze: | OpenAIRE |
| Externí odkaz: |
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