The perovskite SrTiO3 on Si/SiO2 by liquid injection MOCVD

Autor: Laurent Auvray, Stéphane Daniele, Sandrine Lhostis, Olivier Salicio, Frederique Ducroquet, Yohann Rozier, Catherine Dubourdieu
Přispěvatelé: Laboratoire des matériaux et du génie physique (LMGP ), Institut polytechnique de Grenoble - Grenoble Institute of Technology (Grenoble INP )-Institut National Polytechnique de Grenoble (INPG)-Institut de Chimie du CNRS (INC)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM), Université Joseph Fourier - Grenoble 1 (UJF)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Laboratoire Matériaux Polymères aux Interfaces (MPI), Université Paris-Est Créteil Val-de-Marne - Paris 12 (UPEC UP12)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information (CEA-LETI), Direction de Recherche Technologique (CEA) (DRT (CEA)), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA), Institut de recherches sur la catalyse et l'environnement de Lyon (IRCELYON), Université Claude Bernard Lyon 1 (UCBL), Université de Lyon-Université de Lyon-Institut de Chimie du CNRS (INC)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Institut National Polytechnique de Grenoble (INPG)-Institut polytechnique de Grenoble - Grenoble Institute of Technology (Grenoble INP )-Institut de Chimie du CNRS (INC)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Université Joseph Fourier - Grenoble 1 (UJF)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Université d'Évry-Val-d'Essonne (UEVE), Domenget, Chahla
Jazyk: angličtina
Rok vydání: 2009
Předmět:
Zdroj: ECS transactions
ECS transactions, 2009, France. pp.669-684
ResearcherID
Popis: SrTiO3, which has a very high dielectric permittivity κ in the form of bulk material (κ ~ 300), has been considered as a potential candidate for the replacement of SiO2-based gate oxide in future CMOS transistors and as a promising dielectric for next generations of DRAM capacitors. Like all perovskite-type oxides, optimized properties require a stringent control of the composition and of the interfaces with the electrodes. Here, we address issues such as the stoichiometry control of the films synthesized by metal organic chemical vapor deposition and the interface engineering on Si/SiO2 through the precursor chemistry. The silicate layer formed at 700{degree sign}C can be minimized and even suppressed. The dielectric properties are discussed with respect to thickness and composition. Although the perovskite phase is obtained for a large range of Sr/Ti ratio in the films, optimal dielectric properties are obtained in a very narrow range for Sr-deficient films.
Databáze: OpenAIRE