Etude de résines négatives sensibles aux électrons utilisées dans les procédés de microlithographie
| Autor: | C. Rosilio, C. Montginoul, R. Sagnes, L. Giral, B. Holil, F. Buiguez, F. Schué, B. Serre |
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| Rok vydání: | 1985 |
| Předmět: |
Materials science
high resolution 020209 energy Analytical chemistry High resolution 02 engineering and technology electrosensitive negative resists Electron resists high sensitivity 021001 nanoscience & nanotechnology high dry etch resistance poly parabromostyrene poly parachloromethylstyrene electron resists [PHYS.HIST]Physics [physics]/Physics archives 0202 electrical engineering electronic engineering information engineering microlithography high performance electron beam lithography 0210 nano-technology polymers |
| Zdroj: | Revue de Physique Appliquée Revue de Physique Appliquée, Société française de physique / EDP, 1985, 20 (3), pp.143-149. ⟨10.1051/rphysap:01985002003014300⟩ |
| ISSN: | 0035-1687 2777-3671 |
| DOI: | 10.1051/rphysap:01985002003014300 |
| Popis: | Les poly(parachlorométhylstyrène) et poly(parabromostyrène) présentent des propriétés lithographiques intéressantes sous irradiation électronique. Une sensibilité élevée, associée à de bonnes propriétés de résistance à la gravure plasma ainsi qu'à une bonne résolution en font des matériaux de choix dans le cadre de la microlithographie à haute performance. |
| Databáze: | OpenAIRE |
| Externí odkaz: |
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