EUV-Lithographie für zukünftige IC-Chips

Autor: Dirk Holtmannspötter, Gerd Bachmann
Rok vydání: 2003
Předmět:
Zdroj: Vakuum in Forschung und Praxis. 15:61-66
ISSN: 1522-2454
0947-076X
Popis: Der uberwaltigende Erfolg der Halbleiterindustrie basierte in der Vergangenheit auf der Realisierung immer kleinerer Strukturen auf IC-Chips in immer kurzeren Zeitraumen. Damit konnte die Rechengeschwindigkeit der Prozessoren und das Speichervolumen der Speicherbauelemente stetig gesteigert werden. Diese Reduktion der minimalen Strukturgrose hat die optische Lithographie vor allem durch den Ubergang auf kurzere Belichtungswellenlangen gemeistert. Die zur Zeit in der Entwicklungs- und Erprobungsphase befindlichen Lithographietechnologien, basierend auf 193 nm- oder auch 157 nm-Laserquellen, werden jedoch Strukturgrosen um 50 nm nicht mehr erreichen. Ein grundsatzlicher Technologiewechsel zeichnet sich somit ab. Die zur Zeit favorisierte Produktionsgrundlage fur Strukturgrosen von 50 nm und darunter bildet die EUV Lithographie, basierend auf einer optischen Technologie mit 13,4 nm Belichtungswellenlange. Diese erhebliche Reduzierung der Wellenlange bedingt aber auch eine radikale Anderung der bisher benutzten Methodik. In the past the overwhelming success of the semiconductor industry was based on the realisation of ever smaller structures on chips in ever shorter periods. This allowed to increase the computational speed of the processors and the amount of data that can be stored in a memory chip. This reduction of the critical dimension was mastered within optical lithography by transition to smaller wavelengths. Those lithography technologies that are currently in the development or test phase, based on 193 nm or as well 157 nm laser sources, will not achieve dimensions around 50 nm. A fundamental change of technology is thus emerging. The currently favored basis for dimensions of 50 nm and below is EUV lithography, based on an optical technology with an exposure wavelength of 13,4 nm. This substantial reduction of the wavelength also implies a radical change of the methodology used up to now.
Databáze: OpenAIRE
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