氧化硅层厚度对Si/SiO2界面电子态结构与光学性质的影响
| Autor: | 王安琛 WANG Anchen, 黄忠梅 HUANG Zhongmei, 黄伟其 HUANG Weiqi, 张茜 ZHANG Qian, 刘淳 LIU Chun, 王梓霖 WANG Zilin, 王可 WANG Ke, 刘世荣 LIU Shirong |
|---|---|
| Rok vydání: | 2023 |
| Předmět: | |
| Zdroj: | ACTA PHOTONICA SINICA. 52:0116001 |
| ISSN: | 1004-4213 |
| Databáze: | OpenAIRE |
| Externí odkaz: |
|