ChemInform Abstract: Stability of TiB2 as a Diffusion Barrier on Silicon

Autor:	G.A. Ruggles, C. S. Choi, J. D. Hunn, Carlton M. Osburn, A. S. Shah, G. C. Xing
Rok vydání:	2010
Předmět:	Diffusion barrier Silicon Chemical physics Chemistry chemistry.chemical_element General Medicine Stability (probability)
Zdroj:	ChemInform. 22
ISSN:	0931-7597
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::fbe2d8bafd4d2ab476f82d35146a710f https://doi.org/10.1002/chin.199149303 Zobrazit plný text záznamu Plný text