Vapor-quenched AlNi alloy thin films in concentration range 12.5 to 75.4 at .% Ni

Autor:	D. Dužević
Rok vydání:	1975
Předmět:	Range (particle radiation) Materials science Alloy General Engineering engineering Analytical chemistry Thin film engineering.material
Zdroj:	Scripta Metallurgica. 9:543-546
ISSN:	0036-9748
DOI:	10.1016/0036-9748(75)90346-4
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::fb2783e98782ae07b1db380906b2b010 https://doi.org/10.1016/0036-9748(75)90346-4 Zobrazit plný text záznamu