Progress in placement control for ion beam stencil mask technology
Autor: | Frank-Michael Kamm, Albrecht Ehrmann, Thomas Struck, Karl Kragler, Joerg Butschke, Florian Letzkus, Reinhard Springer, Ernst Haugeneder |
---|---|
Rok vydání: | 2001 |
Zdroj: | SPIE Proceedings. |
ISSN: | 0277-786X |
Databáze: | OpenAIRE |
Externí odkaz: |