Characterizing EMA modelled EUV absorbers for high reflectivity: high phase performance

Autor:	Rajiv Naresh Sejpal, Bruce W. Smith
Rok vydání:	2022
Zdroj:	Optical and EUV Nanolithography XXXV.
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::f87befc4688ef49e35aa2dc5d11b0225 https://doi.org/10.1117/12.2617589 Zobrazit plný text záznamu