Selective atomic layer etching of Al2O3, AlNx and HfO2 in conventional ICP etching tool

Autor:	V. Kuzmenko, Y. Lebedinskij, A. Miakonkikh, K. Rudenko
Rok vydání:	2023
Předmět:	Condensed Matter Physics Instrumentation Surfaces Coatings and Films
Zdroj:	Vacuum. 207:111585
ISSN:	0042-207X
DOI:	10.1016/j.vacuum.2022.111585
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::f85ed9f5237964b8a83c9bf7290c4498 https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2022.111585 Zobrazit plný text záznamu Full Text from ScienceDirect