CFET SRAM DTCO, Interconnect Guideline, and Benchmark for CMOS Scaling

Autor:	Hsiao-Hsuan Liu, Shairfe M. Salahuddin, Boon Teik Chan, Pieter Schuddinck, Yang Xiang, Geert Hellings, Pieter Weckx, Julien Ryckaert, Francky Catthoor
Rok vydání:	2023
Předmět:	Electrical and Electronic Engineering Electronic Optical and Magnetic Materials
Zdroj:	IEEE Transactions on Electron Devices. 70:883-890
ISSN:	1557-9646 0018-9383
DOI:	10.1109/ted.2023.3235701
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::f1362dec8358a99a5a8f729c88739a9f https://doi.org/10.1109/ted.2023.3235701 Zobrazit plný text záznamu