Laser- und entladungsbasierte Strahlquellen für das XUV-Mikroskop : Schlussbericht zum Projekt ; im Rahmen des Verbundprojektes Labor-XUV-Mikroskop LTXM

Jazyk:	němčina
Rok vydání:	2011
Předmět:	Optik Röntgenmikroskop Physics Extremes Ultraviolett Experimentalphysik Lasererzeugtes Plasma
DOI:	10.2314/gbv:684555913
Popis:	Ill., graph. Darst.
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::efa4b51cb98bdbf8ea73e79fb34c692c Zobrazit plný text záznamu