Atomic layer deposition of hafnium oxide on porous silicon to form a template for athermal SERS-active substrates

Autor: K. Girel, A. Burko, S. Zavatski, A. Barysiuk, K. Litvinova, E. Eganova, A. Tarasov, D. Novikov, S. Dubkov, H. Bandarenka
Rok vydání: 2023
Předmět:
Zdroj: Applied Physics A. 129
ISSN: 1432-0630
0947-8396
DOI: 10.1007/s00339-023-06592-3
Databáze: OpenAIRE
Externí odkaz: