Design of 1.2 kV SiC Trench MOSFET for suppression on Electric Field Crowding at Gate Oxide

Autor: Yeongeun Park, Chaeyun Kim, Hyowon Yoon, Gyuhyeok Kang, Gwangjae Kim, Ogyun Seok
Rok vydání: 2022
Předmět:
Zdroj: The transactions of The Korean Institute of Electrical Engineers. 71:1646-1650
ISSN: 2287-4364
1975-8359
DOI: 10.5370/kiee.2022.71.11.1646
Databáze: OpenAIRE