Caractérisation des états d'interface dans des transistors MOS submicroniques par différentes techniques de pompage de charge
Autor: | Jacques Delmas, F. Seigneur, B. Balland, C. Plossu, Jean-Luc Autran |
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Rok vydání: | 1993 |
Předmět: | |
Zdroj: | Journal de Physique III. 3:1947-1961 |
ISSN: | 1286-4897 1155-4320 |
DOI: | 10.1051/jp3:1993252 |
Popis: | Nous avons effectue une etude comparative des differentes techniques de pompage de charge (classique, a trois niveaux, spectroscopique) et d'analyse electrique conventionnelles (DLTS, mesures C-V) sur des structures MOS et MOSFET submicroniques. La repartition energetique de la densite d'etats d'interface a ete determinee pour des substrats d'orientation 〈100 〉 de type N et P a differentes etapes d'un procede de fabrication CMOS. Nous avons ainsi montre que les techniques de pompage de charge sont de puissants outils de caracterisation et de diagnostic permettant d'evaluer, avec une grande sensibilite, l'influence des traitements thermiques de passivation et des incidents de procede sur la qualite interfaciale des dispositifs. |
Databáze: | OpenAIRE |
Externí odkaz: |