Oxygen Plasma Resistance of Low-k Organosilica Glass Films
Autor: | Ryo Yoneyama, Yoshio Homma, Daisuke Ryuzaki, Takeshi Furusawa, Kenji Hinode |
---|---|
Rok vydání: | 2001 |
Předmět: | |
Zdroj: | Electrochemical and Solid-State Letters. 4:G31 |
ISSN: | 1099-0062 |
Databáze: | OpenAIRE |
Externí odkaz: |