55‐3: Distinguished Paper: Development of G6 Exposure Tool for 1.2 µm Resolution

Autor:	Nobuhiko Yabu, Nozomu Izumi, Miwako Ando, Yoshinori Osaki, Kouhei Nagano, Manabu Hakko
Rok vydání:	2019
Předmět:	Materials science Optics business.industry Resolution (electron density) business Lithography
Zdroj:	SID Symposium Digest of Technical Papers. 50:769-772
ISSN:	2168-0159 0097-966X
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::e52819bd45f895fe3464c5868f0dae9d https://doi.org/10.1002/sdtp.13034 Zobrazit plný text záznamu Plný text