Formation of Deep Traps at the 4H-SiC/SiO2 Interface when Utilizing Sodium Enhanced Oxidation

Autor:	Fredrik Allerstam, G. Gudjónsson, Einar O. Sveinbjörnsson, T. Rödle, R. Jos
Rok vydání:	2007
DOI:	10.4028/0-87849-442-1.517
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::e369a74f11028159bb63850216555e5a https://doi.org/10.4028/0-87849-442-1.517 Zobrazit plný text záznamu