Characteristics of PEALD–Hafnium Dioxide Films and their Application to Gate Insulator Stacks of Photosynaptic Transistors
| Autor: | Jieun Kim, Jung Wook Lim, Jaehee Lee |
|---|---|
| Rok vydání: | 2021 |
| Předmět: | |
| Zdroj: | Advanced Electronic Materials. 8:2101061 |
| ISSN: | 2199-160X |
| DOI: | 10.1002/aelm.202101061 |
| Databáze: | OpenAIRE |
| Externí odkaz: |
|
Plný text