(Invited) Wet Etching inside Advanced High Aspect Ratio Structures: Impact of Dissolved Oxygen

Autor: Hitoshi Kosugi, Ihsan Simms, Antonio Rotondaro, Derek W. Bassett, Tetsuya Sakazaki, Trace Hurd
Rok vydání: 2019
Předmět:
Zdroj: ECS Transactions. 92:127-135
ISSN: 1938-5862
1938-6737
DOI: 10.1149/09202.0127ecst
Databáze: OpenAIRE