AFM clean and nanomachining repair technology for future mask nodes

Autor:	Maria Jose Cadena, Tod E. Robinson
Rok vydání:	2022
Zdroj:	Photomask Technology 2022.
DOI:	10.1117/12.2641799
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::dac363d543480f6a59afe243d1cb3ce8 https://doi.org/10.1117/12.2641799 Zobrazit plný text záznamu