Discussion of 'Vapor Phase Deposition and Etching of Silicon' [W. H. Shepherd (pp. 988–994, Vol. 112, No. 10)]
Autor: | W. J. Riedl |
---|---|
Rok vydání: | 1966 |
Předmět: | |
Zdroj: | Journal of The Electrochemical Society. 113:1342 |
ISSN: | 0013-4651 |
DOI: | 10.1149/1.2423825 |
Databáze: | OpenAIRE |
Externí odkaz: |