Discussion of 'Vapor Phase Deposition and Etching of Silicon' [W. H. Shepherd (pp. 988–994, Vol. 112, No. 10)]

Autor: W. J. Riedl
Rok vydání: 1966
Předmět:
Zdroj: Journal of The Electrochemical Society. 113:1342
ISSN: 0013-4651
DOI: 10.1149/1.2423825
Databáze: OpenAIRE