The use of ion beam etching in the process of manufacturing an acoustic delay line

Jazyk: ruština
Rok vydání: 2022
Předmět:
DOI: 10.18720/spbpu/3/2022/vr/vr22-2270
Popis: Цель работы – применение ионно-лучевого травления в процессе изготовления акустической линии задержки. В Ñ Ð¾Ð´Ðµ работы был использован метод ионно-лучевого травления для того, чтобы проверить правильно ли заявлена модельным вариантом установки ионно-лучевого травления глубина травления. Для проверки нужно было провести эксперимент, а именно измерить потери сигнала при Ð·Ð°Ð´Ð°Ð½Ð½Ñ‹Ñ Ð°ÑÐ¿ÐµÐºÑ‚Ð°Ñ , который как раз и показал, за какое время при Ð²Ð¾Ð·Ð¼Ð¾Ð¶Ð½Ñ‹Ñ Ð¿Ð¾Ñ‚ÐµÑ€ÑÑ Ð³Ð»ÑƒÐ±Ð¸Ð½Ð° залегания будет отличаться от заданной моделью. Образцом является подложка из монокристаллического ниобата лития, потому что он чаще всего используют как звукопровод, потому что это позволяет сделать подложку довольно большой длины. В результате проведенного опыта стало понятно, за какое время при Ð²Ð¾Ð·Ð¼Ð¾Ð¶Ð½Ñ‹Ñ Ð¿Ð¾Ñ‚ÐµÑ€ÑÑ Ð³Ð»ÑƒÐ±Ð¸Ð½Ð° залегания будет отличаться от заданной моделью. Глубина травления получилась равной ~ 600 ± 30 à при времени 1180 с. Это является наилучшим результатом при Ð¿Ð¾Ñ‚ÐµÑ€ÑÑ Ð² 44 дБ, при том, что максимальное возможное значение – 48дБ. Следовательно, в итоге можно сделать вывод, что на практике Ñ Ð°Ñ€Ð°ÐºÑ‚ÐµÑ€Ð¸ÑÑ‚Ð¸ÐºÐ¸ модельного варианта установки отличаются и всегда стоит это учитывать и проверять.
The purpose of the work is the use of ion beam etching in the process of manufacturing an acoustic delay line.In the course of the work, the ion-beam etching method was used in order to check whether the etching depth was correctly declared by the model version of the ion-beam etching installation. To test it, it was necessary to conduct an experiment, namely, to measure signal losses at specified aspects, which just showed how long, with possible losses, the depth of occurrence would differ from the specified model. The sample is a substrate made of monocrystalline lithium niobate, because it is most often used as a sound conductor, because it allows you to make a substrate of a fairly large length.As a result of the conducted experience, it became clear for how long, with possible losses, the depth of occurrence will differ from the specified model. The etching depth turned out to be ~ 600 ± 30 à at a time of 1180 s. This is the best result with a loss of 44 dB, despite the fact that the maximum possible value is 48dB. Consequently, as a result, we can conclude that in practice the characteristics of the model version of the installation are different and it is always worth taking this into account and checking.
Databáze: OpenAIRE